Poprosić o wycenę |

Dom Produktydesktop rapid thermal processing equipment producent online

Wszystkie produkty

Płytka epitaksjalna GaN
(65)

Wafel epitaksjalny Sic
(39)

Wafel GaAs Epi
(15)

Podłoża diamentowe CVD
(15)

System szybkiego wyżarzania termicznego
(2)

Tester czujnika efektu Halla
(3)

Płytka z azotku glinu
(21)

Układ diody laserowej
(10)

Kryształ węglika krzemu
(12)

Wafel Ga2O3
(13)

Wafel silikonowy
(26)

Szafirowy Opłatek
(19)

Wzorzyste podłoża szafirowe
(10)

Uchwyt na wafle owe
(1)

Maszyna do krojenia wafli
(5)

Orzecznictwo

Im Online Czat teraz

desktop rapid thermal processing equipment produkcja online

(1)

System szybkiego wyżarzania termicznego 150 mm z trzema zestawami gazów procesowych
Kontakt

Czytaj więcej

2024-11-18 17:56:05

Page 1 of 1

Płytka epitaksjalna GaN: 2-calowy epitaksjalny wafel GaN C Face Fe domieszkowany SI typu wolnostojący; Podłoża GaN domieszkowane Fe Rezystywność > 10⁶ Ω·Cm Urządzenia RF; 2-calowe wolnostojące podłoża SI-GaN

Wafel epitaksjalny Sic: Fazowana płytka epitaksjalna SiC 150,0 mm +0 mm/-0,2 mm 350,0 um ± 25,0 um; Forma kryształu 4H SiC Epitaksjalny wafel Fazowanie krawędzi wafla 350,0um ± 25,0um; Pojedynczy kryształ SiC Epitaksjalny wafel C-Face Optyczny polski Si-Face CMP

Zostaw wiadomość