|
Szczegóły Produktu:
|
| Wymiary: | 5x10mm² | Grubość: | 350 ±25µm |
|---|---|---|---|
| TTV: | ≤ 10µm | kokarda: | - 10µm≤ ŁUK ≤10µm |
| Gęstość defektów makro: | 0cm⁻² | Powierzchnia użytkowa: | > 90% (wyłączenie krawędzi) |
| Podkreślić: | 5*10mm2 GaN Substrat jednokrystaliczny |
||
5*10mm2 A-face Niedomieszkowany wolnostojący monokrystaliczny substrat GaN typu SI Rezystywność > 106 Ω·cm Płytka urządzenia RF
Przegląd
Cienkie płytki Epi są powszechnie stosowane w najnowocześniejszych urządzeniach MOS.Grube Epi lub Wielowarstwowe płytki epitaksjalne stosowane są w urządzeniach głównie do sterowania energią elektryczną i przyczyniają się do poprawy efektywności zużycia energii.
Podłoże z azotku galu (GaN) jest wysokiej jakości podłożem monokrystalicznym.Wykonany jest oryginalną metodą HVPE i technologią przetwarzania płytek, która była oryginalnie rozwijana przez wiele lat.Cechy to wysoka krystaliczność, dobra jednorodność i doskonała jakość powierzchni.
Te płytki GaN służą do wytwarzania niespotykanych dotąd ultrajasnych diod laserowych i wysokowydajnych urządzeń zasilających do użytku w źródłach światła projektorów, falownikach do pojazdów elektrycznych i innych zastosowaniach.
| A Fas FRee-ulANDING GAN PodulraTmiS | ||||
| Przedmiot | GaN-FS-AUS |
GaN-FS-ANS |
GaN-FS-A-SI-S |
Kąt łuku kołowego (R < 2 mm) służy do rozróżnienia powierzchni przedniej i tylnej. |
| Wymiary | 5x10mm2 | |||
| Grubość | 350 ±25 µm | |||
| Orientacja |
Płaszczyzna (11-20) odchyla się od kąta w kierunku osi M 0 ±0,5° Kąt odchylenia płaszczyzny (11-20) od osi C - 1 ±0,2° |
|||
| Typ przewodzenia | typu N |
typu N |
Półizolujące | |
| Rezystywność (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106Ω·cm | |
| TTV | ≤ 10 µm | |||
| UKŁON | - 10 µm ≤ ŁUK ≤ 10 µm | |||
| Chropowatość powierzchni czołowej |
< 0,2 nm (polerowany); lub < 0,3 nm (polerowanie i obróbka powierzchni pod kątem epitaksji) |
|||
| Chropowatość powierzchni tylnej |
0,5 ~ 1,5 μm opcja: 1~3 nm (dokładne szlifowanie);< 0,2 nm (polerowane) |
|||
| Gęstość dyslokacji | Od 1x105do 3x106cm-2 | |||
| Gęstość defektów makro | 0 cm-2 | |||
| Powierzchnia użytkowa | > 90% (wyłączenie krawędzi) | |||
| Pakiet | Pakowane w środowisku clean room klasy 100, w pojemniku 6 SZT, w atmosferze azotu | |||
Dodatek: Wykres kąta błędnego cięcia
Jeśli δ1= 0 ±0,5°, to płaszczyzna (11-20) odchylona od osi M wynosi 0 ±0,5°.
Jeśli δ2= - 1 ±0,2°, wtedy płaszczyzna (11-20) odchylona od osi C wynosi -1 ±0,2°.
O nas
Specjalizujemy się w przetwarzaniu różnorodnych materiałów na płytki, podłoża i niestandardowe części ze szkła optycznego. Komponenty szeroko stosowane w elektronice, optyce, optoelektronice i wielu innych dziedzinach.Ściśle współpracujemy również z wieloma krajowymi i zamorskimi uniwersytetami, instytucjami badawczymi i firmami, dostarczając niestandardowe produkty i usługi dla ich projektów badawczo-rozwojowych.Naszą wizją jest utrzymywanie dobrych relacji współpracy ze wszystkimi naszymi klientami dzięki naszej dobrej reputacji.
Często zadawane pytania
P: Czy jesteś firmą handlową lub producentem?
Jesteśmy fabryką.
P: Jak długi jest czas dostawy?
Zwykle jest to 3-5 dni, jeśli towary są w magazynie.
lub jest to 7-10 dni, jeśli towarów nie ma w magazynie, jest to zależne od ilości.
P: Czy dostarczasz próbki?to jest darmowe czy dodatkowe?
Tak, możemy zaoferować próbkę za darmo, ale nie płacimy za fracht.
P: Jakie są twoje warunki płatności?
Płatność <= 5000 USD, 100% z góry.
Paymen >=5000USD, 80% T/T z góry, saldo przed wysyłką.
Osoba kontaktowa: Xiwen Bai (Ciel)
Tel: +8613372109561
