Wyślij wiadomość
Dom ProduktyWafel epitaksjalny Sic

2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym

Orzecznictwo
Chiny Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. Certyfikaty
Im Online Czat teraz

2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym

2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym
2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym 2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym

Duży Obraz :  2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym

Szczegóły Produktu:
Miejsce pochodzenia: Chiny
Nazwa handlowa: Ganova
Numer modelu: JDWY03-002-013
Zapłata:
Minimalne zamówienie: 5
Szczegóły pakowania: Pakowane w pomieszczeniu czystym klasy 100, w pojemniku 25szt., w atmosferze azotu
Zasady płatności: T/T

2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym

Opis
Wymiar: 2 cale
Podkreślić:

2-calowa płytka epitaksjalna

,

2-calowa płytka epi

,

2-calowe płytki epi

Wprowadzenie do GaN na płytce silikonowej HEMT Epi
HEMT epitaksjalna płytka z azotkiem galiu na bazie krzemu to płytka epitaksjalna z tranzystorem o wysokiej mobilności elektronów (HEMT) na bazie materiału z azotku galiu (GaN).Jego struktura obejmuje głównie warstwę bariery AlGaNTa struktura umożliwia HEMT z azotkiem galiu wysoką mobilność elektronów i prędkość elektronów nasycenia,o pojemności nieprzekraczającej 10 W,.
Cechy strukturalne
AlGaN/GaN Heterojunction: HEMT z azotkiem galiu opiera się na heterojunction AlGaN/GaN, który tworzy dwwymiarowy kanał elektronowy gazu dwwymiarowego o wysokiej mobilności elektronów (2DEG) poprzez heterojunction.
Typ wyczerpania i wzmocnienia: płytki epitaksowe HEMT z azotanu galiu podzielone są na typ wyczerpania (tryb D) i typ wzmocnienia (tryb E).Typ wyczerpany to naturalny stan urządzeń zasilania GaN, podczas gdy wzmocniony typ wymaga specjalnych procesów.
Proces wzrostu epitaksjalnego: Wzrost epitaksjalny obejmuje warstwę nukleacji AlN, warstwę buforową relaksu stresu, warstwę kanału GaN, warstwę barierową AlGaN i warstwę pokrywy GaN.
proces produkcji
Wzrost epitaksjalny: Wzrost jednej lub kilku warstw cienkich folii azotanu galiu na podłożu krzemowym w celu utworzenia wysokiej jakości płytek epitaksjalnych.
Pasywacja i warstwa pokrywająca: Warstwa pasywacji SiN i warstwa pokrywająca u-GaN są zwykle stosowane na płytkach epitaksyalnych azotanu galiu w celu poprawy jakości powierzchni i ochrony płytek epitaksyalnych.
obszar zastosowania
Zastosowania o wysokiej częstotliwości: ze względu na wysoką mobilność elektronów i prędkość elektronów nasycenia materiałów z azotanu gallu,HEMT z azotkiem gallu nadają się do zastosowań o wysokiej częstotliwości, takich jak komunikacja 5G, radar i łączność satelitarną.
Aplikacje o wysokiej mocy: HEMT z azotkiem galium dobrze sprawdzają się w zastosowaniach o wysokim napięciu i mocy, odpowiednich do takich dziedzin, jak pojazdy elektryczne, falowniki słoneczne i przemysłowe źródła zasilania.


Specyfikacja produktu

 

2calowy niebieski laser GaN na krzemowym

Pozycja

Si ((111) substraty

Puffer Al(Ga)N UGAN nGaN AlGaN InGaN

MQW

(1-3 pary)

InGaN AlGaN pGaN Warstwa kontaktowa
InGaN-QW GaN-QB
Wymiar 2 cali
Gęstość 1000 nm 1300-1500 nm 1300-1500 nm 1200-1500 nm 70-150 nm ~ 2,5 nm ~ 15 nm 70-150 nm 400-600 nm / 10 nm
Skład Al% / / / 5-8 / / / / 5-8 / /
W % / / /   2-8 ~15 / 2-8 / / /
Doping [Si] / / 5.0E+18 2.0E+18 2.0E+18 / / / / / /
[Mg] / / / / / / / / 2.0E+19 2.0E+19 /
Długość laser d'onde 455±5nm
Struktura podłoża 10nmSłup łączony/pGaN/400-600nmAlGaN/70-150nmInGaN/~15nmGaN-QB/~2,5nmInGaN-QW/70-150nmInGaN/1200-1500nmAlGaN/1300-1500nmnGaN/1300-1500nmuGaN/1000nmAlGa (((Ga) N bufor/Si(111)
Pakiet Opakowane w czystym pomieszczeniu klasy 100, w pojemniku o pojemności 25 PCS, w atmosferze azotu

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


 

O nas

Specjalizujemy się w przetwarzaniu różnych materiałów w płytki, podłoża i niestandardowe optyczne szkło części. składniki szeroko stosowane w elektronice, optyce, optoelektroniki i wielu innych dziedzinach.Współpracujemy z wieloma krajowymi i zagranicznymi uczelniami., instytucje badawcze i firmy, zapewniają dostosowane produkty i usługi dla swoich projektów B+R.Naszą wizją jest utrzymanie dobrych relacji współpracy z naszymi klientami dzięki naszej dobrej reputacji.

 

2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym 02 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym 1

 


 

Częste pytania

P: Czy jest pan firmą handlową czy producentem?
Jesteśmy fabryką.
P: Jak długi jest czas dostawy?
Zazwyczaj to 3-5 dni, jeśli towary są na magazynie.
lub 7-10 dni, jeśli towary nie są na magazynie, zależy to od ilości.
P: Czy dostarczacie próbki?
Tak, możemy zaoferować próbkę za darmo, ale nie płacimy kosztów przewozu.
P: Jakie są warunki płatności?
Płatność <= 5000 USD, 100% z góry.
Płatnik >=5000USD, 80% T/T z góry, saldo przed wysyłką.

 

Transporter


2 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym 22 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym 32 cali GaN na krzemowym Blue LD Epi wafer GaN niebieski laser na krzemowym 4

Szczegóły kontaktu
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Osoba kontaktowa: Xiwen Bai (Ciel)

Tel: +8613372109561

Wyślij zapytanie bezpośrednio do nas (0 / 3000)