|
|
10*10,5 mm2 GaN Single Crystal Substrat Grubość 350 ±25 µm TTV ≤ 10 µm2025-04-04 22:43:27 |
|
|
0,6 mm 0,8 mm Ga2O3 Pojedyncze polerowanie podłoża monokrystalicznego2024-10-29 11:49:58 |
|
|
GaN 2-calowy nitrid galium jednokrystaliczny2024-12-06 17:45:14 |
|
|
Wafel półprzewodnikowy z azotku galu 325um 375um C Samolot2024-10-29 11:49:57 |