Dom Produktyside polished ga2o3 wafer producent online
Orzecznictwo
Chiny Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. Certyfikaty
Im Online Czat teraz

side polished ga2o3 wafer produkcja online

(13)
kupić Jednostronnie polerowane podłoże monokrystaliczne waflowe Ga2O3 w Internecie producent

Jednostronnie polerowane podłoże monokrystaliczne waflowe Ga2O3

10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor ... Czytaj więcej
2024-10-29 11:49:58
kupić FWHM w Internecie producent

FWHM

2023-02-17 14:17:37
kupić Jednostronnie polerowane podłoże Ga2O3 Grubość pojedynczego kryształu 0,6 mm 0,8 mm w Internecie producent

Jednostronnie polerowane podłoże Ga2O3 Grubość pojedynczego kryształu 0,6 mm 0,8 mm

Single side polished Ga2O3 Single Crystal Substrate Thickness 0.6~0.8mm 10x15mm2(010)Sn-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0... Czytaj więcej
2023-02-17 14:30:35
kupić 10x15mm2 UID Domieszkowany wolnostojący wafel Ga2O3 Pojedyncze polerowanie w Internecie producent

10x15mm2 UID Domieszkowany wolnostojący wafel Ga2O3 Pojedyncze polerowanie

JDCD04-001-005 10x15mm2(-201)UID-Doped Free-Standing Ga2O3 Single Crystal Substrate Product Grade Single Polishing 10x15mm2(-201)UID-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single ... Czytaj więcej
2022-09-27 16:57:32
kupić Sn Doping Ga2O3 Wafel Podłoże monokrystaliczne 10x10mm2 w Internecie producent

Sn Doping Ga2O3 Wafel Podłoże monokrystaliczne 10x10mm2

10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor ... Czytaj więcej
2024-10-29 11:49:58
kupić 10x10mm Ga2O3 Wafel 10x15mm Podłoże monokrystaliczne w Internecie producent

10x10mm Ga2O3 Wafel 10x15mm Podłoże monokrystaliczne

10x15mm2(-201)UID-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.5nm Resistance 4.13E+17Ω/cm-3 Optoelectronic devices, insulating ... Czytaj więcej
2022-09-27 16:57:06
kupić Podłoże jednokrystaliczne z domieszką Ga2O3 Fe 10x10mm2 Wolnostojące w Internecie producent

Podłoże jednokrystaliczne z domieszką Ga2O3 Fe 10x10mm2 Wolnostojące

10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor ... Czytaj więcej
2022-10-09 10:34:19
kupić Ra 0,3 nm Ga2O3 Pojedynczy kryształ Epitaksjalny wafel 2 cale 4 cale w Internecie producent

Ra 0,3 nm Ga2O3 Pojedynczy kryształ Epitaksjalny wafel 2 cale 4 cale

Ra≤0.3nm Single Crystal Substrate Thickness 0.6~0.8mm Orientation (-201) 10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec... Czytaj więcej
2023-02-17 14:34:04
kupić 0,6 mm 0,8 mm Ga2O3 Pojedyncze polerowanie podłoża monokrystalicznego w Internecie producent

0,6 mm 0,8 mm Ga2O3 Pojedyncze polerowanie podłoża monokrystalicznego

10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor ... Czytaj więcej
2024-10-29 11:49:58
kupić JDCD04-001-003 10x10mm2 100 ((Off 6°) Fe Doped Free Standing Ga2O3 Jednokrystaliczny podłoże Produkty klasy pojedynczego polerowania w Internecie producent

JDCD04-001-003 10x10mm2 100 ((Off 6°) Fe Doped Free Standing Ga2O3 Jednokrystaliczny podłoże Produkty klasy pojedynczego polerowania

10x10mm2 100(off 6°) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤5nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor ... Czytaj więcej
2025-04-27 11:43:51
Page 1 of 2|< 1 2 >|