|
|
Półprzewodnikowe podłoże z monokrystalicznego tlenku galu Doping UID2022-10-09 10:30:43 |
|
|
Podłoże jednokrystaliczne z domieszką Ga2O3 Fe 10x10mm2 Wolnostojące2022-10-09 10:34:19 |
|
|
Jednostronnie polerowane podłoże monokrystaliczne waflowe Ga2O32024-10-29 11:49:58 |
|
|
Ra 0,3 nm Ga2O3 Pojedynczy kryształ Epitaksjalny wafel 2 cale 4 cale2023-02-17 14:34:04 |
|
|
10x15mm2 UID Domieszkowany wolnostojący wafel Ga2O3 Pojedyncze polerowanie2022-09-27 16:57:32 |